第94章 第102 103章 EVU联盟（为阁昏晓及订 (第2/3页)

组成的投影系统，将反射掩模上的集成电路的几何图形成像到硅片上的光刻胶中，从而形成集成电路所需要的光刻图形。”

    “理论上，这个过程没有问题。”何星舟点点头。

    “但问题在于如何在提高euv光源瓦数的同时，降低等离子气氛中微粒、高速粒子和其它污染物。”严蕊头疼道，“不然光源就会迅速恶化。还有，极紫外投影光刻系统使用了反射式掩模。”

    “我们的euv掩膜缺陷仍高达ldefect／cm2，检测机台的制造水平也要得到进一步提升。”

    “检测机台的问题，我想卢教授那边的团队应该能解决。”何星舟说道，“至于极紫外光源的问题，我想到了一个解决方案。”

    “什么方案？”这群院士和专家们都看着他。

    何星舟说道：“光源瓦数的提升，可以用电能！”

    “在高功率激光加热负载体形成等离子体并且多次反射后，形成了极紫外光源，这个时候，再设计一个放电反应室，让等离子体进一步转化，辐射出亮度更高，更纯净的极紫外线，如果还有多层反射镜，euv的纳米刻度会进一步提升，就有可能满足3纳米制程的要求！”

    其实这就是解决方案，只不过何星舟说的委婉了一点。

    “这样做我们也设想过！”严蕊似乎有点想法了，她问道：“这个电能反应室……”

    “我有设计图！”何星舟说道。

    “真的？！”众人听到他这么说，精神为之一振，赶紧说道：“让我们看看！”

    “去会议室！”何星舟笑道。

    众人一起前往会议室，何星舟呼唤鹿米，让她打开设计图纸，并且进行讲解。

    当他讲完，全场鸦雀无声。每个人都在思考和计算。

    足足过了十分钟，严蕊第一个站起来，满心欢喜的说道：“可以！我初步计算，这个方案完全有可能做到我们要求的高亮度极紫外光源！”

    “对，我的看法也是一样！”有一位老院士站起来，他兴奋道：“这个放电反应室，真是神来之笔！光源折射损耗后，电能将等离子转化，形成新的高能等离子体，不仅没有光污染，还让极紫外线的纯净度进一步提升，这样做出来的光刀，只怕能达到世界之最！”

    “何总工，你真是个天才，这样的方案也能想到！”

    “那还等什么，我们赶紧去试试吧！”专家们都忍不住了。

    “这就开始！”何星舟笑道，他知道，这次尝试必定成功！这可是自己解锁光刻机技术后，思考和计算了一个多月，才完成的设计！

    ……

    灯国，“复仇者联盟”正在召开大会。

    这可不是动漫和电影里的复仇者联盟，而是由白鹰领头，组建的euv光刻机技术联盟。

    由英特尔、amd、摩托罗拉和ibm等业界巨头，加上隶属于白鹰的桑迪亚国家实验室和劳伦斯利弗莫尔国家实验室组成！

    除了白鹰有一个，西方联盟也有一个类似的，由三十多个国家，数百个企业组成，全部都是光刻机及芯片的相关产业。

    风车国的阿斯麦公司能生产出世界上最顶级的极紫外光刻机，就是因为获得了他们的支持！

    眼下，因为那“全面合作”协议，白鹰的euv联盟和西方联盟的euv联盟开始合作，共同讨论“合作细节”。

    联盟会长福斯特坐在首席，他是白鹰统领不久前刚任命的，其风格做派要比上一任强硬许多！

    与会的成员，全都是来自国际巨头的代表！可以说，他们这些公司，就代表了全世界最顶级的光刻机、芯片技术！

    “樱花那边向我们提交建议，说极紫外光刻胶技术已经被神州攻克，希望开放极紫外光刻胶市场！”福斯特慢条斯理的说道，“大家有什么意见？”

    “不能开放！”第一个发言的代表就表示反对，他是来自陶氏集团的代表莫尔顿，同样是世界排名前五的光刻胶企业。

    他义正言辞的说道：“既然我们达成了合作协议，就要共同进退。今天